研究室の主要装置

  • 広帯域極短パルスレーザーシステム

    左側の黒い装置は、100フェムト秒の光パルスを発生させる事が出来るレーザ装置(Clark社CPA-2001)。 右側の白い装置は、左側のレーザからでてくる800nmのレーザ光パルスを、紫外線 (波長240nm)〜赤外線(波長12μm)の波長の光に変換することができる オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)と呼ばれる装置(Quantronix社TOPAS)。

  • 広帯域ピコ秒パルスレーザーシステム

    80MHzの繰り返しで700nm〜1000nmの波長の1ピコ秒のレーザパルスを発生させることができるレーザ装置(SpectraPhysics社Tsunami)。

  • 超強磁場発生装置

    極低温(4K)で動作する超伝導磁石を用いて非常に強い磁場(10T)を発生させる 事が出来る装置(JASTEC社製)。

  • ストリークカメラシステム

    数ピコ秒の時間分解能を持つ時間分解発光スペクトル測定を行える装置(HAMAMATSU PHOTONICS社製)。

  • 近赤外〜紫外分光光度計

    180nmの紫外から3300nmの近赤外の波長領域の透過・吸収・反射スペクトルを測定出来る装置(Shimazu社UV-3600)。